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1200度小型PECVD系統(tǒng)
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- 商品名稱: 1200度小型PECVD系統(tǒng)
- 商品編號: 1034427143204724736
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G
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產(chǎn)品用途
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
產(chǎn)品組成
PECVD系統(tǒng)配置；
1.1200度開啟式滑動單溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)（單獨購買）
產(chǎn)品特點
電源范圍廣；溫度范圍寬；濺射區(qū)域長；整管可調(diào)；精致小巧，性價比高，可實現(xiàn)快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
系統(tǒng)名稱
集成型PECVD系統(tǒng)
1200℃小型PECVD系統(tǒng)
系統(tǒng)型號
PECVD-12IH-500A
PECVD-12IH-4Z/G
控制方式
液晶屏微PLC控制系統(tǒng)
手動
溫度
1200℃
加熱區(qū)長度
200mm
恒溫區(qū)長度
100mm
溫區(qū)
單溫區(qū)
石英管管徑
Φ60mm
Φ50mm
額定功率
1.2Kw
2Kw
額定電壓
220V
滑動方式及距離
自動滑動;200mm
手動滑動;200mm
溫度控制
30段程序控溫
50段程序控溫
控制精度
±1℃
爐管工作溫度
＜1200℃
氣路法蘭
采用多環(huán)密封技術(shù)卡箍快速連接
排風冷卻裝置
先進的空氣隔熱技術(shù)，結(jié)合熱感應(yīng)技術(shù)，當爐體表面溫升到50℃時，
排溫風扇將自動啟動，使爐體表面快速降溫。
氣體控制方式
質(zhì)量流量計（按鍵式）
氣路數(shù)量
2路（2-4路）
4路（可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量）
流量范圍
0-500sccm(標準毫升/分，可選配）氮氣標定
精度
±1%F.S
響應(yīng)時間
1sec
工作溫度（流量計）
20-120℃
工作壓力
進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力）
進氣方式
采用防倒流設(shè)計
規(guī)格
中真空（集成型請單獨購買）
系統(tǒng)真空范圍
10Pa-100Pa
真空泵
雙級機械泵理論極限真空度3x10-1Pa，抽氣速率4L/S（選配：其他抽速真空泵）,出氣口配有油污過濾器，額定電壓220V，功率0.55Kw
信號頻率
13.56MHz±0.005%
功率輸出范圍
0W-500W
0W-100W
反射功率
350W
30W
射頻輸出接口
50Ω，N-type,temale
功率穩(wěn)定度
±0.1%
諧波分量
≤-50dbc
供電電壓
單相交流（187V-253V)頻率50/60HZ
整機功率
≥70%
屏幕顯示
正方向功率，匹配器電容位置，偏置電壓值
爐體外形尺寸
290×350×340mm
290×350×495mm
系統(tǒng)外形尺寸
420×1440×1100mm
530×2310×750mm
系統(tǒng)總重量
270Kg
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